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[发明专利]移动流体供应系统、供应流体的方法、控制单元和包括该系统的车辆、船舶或飞行器-CN202211633461.3在审
发明人：约翰纳·贝里斯特伦;罗兰德·奎斯特 -专利权人：沃尔沃建筑设备公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： B60S5/02 文献下载
摘要：本公开涉及移动流体供应系统、供应流体的方法、控制单元和包括该系统的车辆、船舶或飞行器。公开了用于向主机单元供应流体的电动移动流体供应系统，包括：至少一个加压流体空间；流体分配器，其能够流体地连接到主机单元并配置成在流体供应操作中从至少一个加压流体空间向主机单元供应流体；以及至少一个压缩机，其配置成为移动流体供应系统中的流体供应操作建立足够的压力。移动流体供应系统被配置成电连接到主机单元，并且至少一个压缩机被配置成电连接到移动流体供应系统并且在流体供应操作期间由主机单元供电。还公开了用于将流体供应到主机单元的方法、控制流体供应操作的控制单元和包括移动流体供应系统的车辆、船舶或飞行器。
移动流体供应系统方法控制单元包括车辆船舶飞行器

[发明专利]流动阻力产生单元及包括其的基板处理装置-CN202210853629.5在审
发明人：辛在原;李在晟;崔海圆;元俊皓;科里亚金·安东;金旻祐;姜亨奭;金应秀;许弼覠;成进荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-07-11 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供设置在管道内以稳定内部气流的流动阻力产生单元及包括其的基板处理装置。基板处理装置包括壳体；支承单元，设置在壳体内部，并且在两侧支承基板；加热部件，设置于壳体的侧壁，并且用于产生用于处理基板的热量；流体供应单元，用于向壳体的内部供应用于处理基板的流体，并且包括上部流体供应部、下部流体供应部和供应管道，上部流体供应部用于向基板的上部供应流体，下部流体供应部用于向基板的下部供应流体，供应管道与上部流体供应部和下部流体供应部中的至少一个流体供应部连接；以及流动阻力产生单元，设置于供应管道，并且对通过供应管道的流体产生流动阻力，其中，流动阻力产生单元设置在供应管道所包括的曲管与流体供应部之间。
流动阻力产生单元包括处理装置

[发明专利]用于供应流体的单元及用该单元处理基板的装置和方法-CN201710377065.1在审
发明人：金俙焕;李暎熏 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-05-25 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种用于供应流体的装置和方法。基板处理装置包括处理单元，其用于处理基板；流体供应单元，其用于将流体供给所述处理单元，其中，所述流体供应单元包括供应罐，其中储存流体；供应管线，其连接所述供应罐和所述处理单元以将来自所述供应罐的流体供应至所述处理单元；过滤器，其安装在所述供应管线上；以及排出管线，其从所述供应管线分叉出，其中，所述供应管线中的所述排出管线的分叉点位于所述过滤器的上游。
用于供应流体单元处理装置方法

[发明专利]半导体设备及其清洁单元-CN200710089591.4有效
发明人：林建坊;吕仁智 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2007-04-03 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体设备及其清洁单元，特别涉及一种半导体设备，用以处理一晶圆，包括一平台、一流体供应单元以及一清洁单元。平台支撑该晶圆。流体供应单元提供一第一流体，其中，该流体供应单元可以于一第一位置以及一第二位置之间移动。清洁单元提供一第二流体。其中，当该流体供应单元位于该第一位置时，该流体供应单元朝该晶圆提供该第一流体，当该流体供应单元位于该第二位置时，该清洁单元朝该流体供应单元的表面吹送该第二流体，以清洁该流体供应单元的表面。本发明所述的半导体设备及其清洁单元，周期性的从该流体供应单元的表面移除污染物，借此，可避免晶圆遭受污染，提高产品的良率。
半导体设备及其清洁单元

[发明专利]流体供应装置-CN201810897240.4有效
发明人：冯傳彰 -专利权人：辛耘企业股份有限公司
申请日： 2018-08-08 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种流体供应装置用以处理一基板，基板包括一非平面区域。流体供应装置包括一流体供应单元和一气体供应单元。流体供应单元用以朝基板输出流体。气体供应单元位于流体供应单元的外侧，气体供应单元包括一气体输出部，气体输出部用以朝基板输出一第一气体。当流体供应单元朝基板输出流体时，会在非平面区域上形成一湿式工艺；当气体输出部朝基板输出第一气体，且第一气体沿着相对基板的一水平方向流动时，第一气体会在非平面区域上形成一移除工艺，以移除流体。
流体供应装置

[发明专利]内窥镜的流体供应装置-CN200680030069.2无效
发明人： A·利维;D·奥兹 -专利权人：斯特赖克GI有限公司
申请日： 2006-07-30 - 公布日： 2008-08-13 - 主分类号： A61B1/015 文献下载
摘要：公开了内窥镜装置和流体供应单元。内窥镜装置包括用于插入所述体腔内的插入构件并且具有至少一个通道，穿过该通道流体介质被供应至体腔。内窥镜装置还包括操作手柄，控制流体介质供应的控制单元，流体供应单元和从所述流体供应单元至所述通道输送所述流体介质的装置。流体供应单元设有至少一个可再充或可替代的容器用于在其中储存流体介质以及基于从控制单元接收的信号用于将流体介质供应至通道。
内窥镜流体供应装置

[发明专利]用于防止过度干燥引起的二次电池电极板的缺陷的柔性空气供应阻尼系统-CN202110398758.5有效
发明人：李相华;朴世勋;郑会善 -专利权人： SK新能源株式会社
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： F26B21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于防止过度干燥引起的二次电池电极板的缺陷的柔性空气供应阻尼系统，该柔性空气供应阻尼系统包括：供应流体的流体供应单元；加热通过流体供应单元供应的流体的加热单元；在接收通过加热单元加热的流体的同时干燥电极板的干燥单元；将通过加热单元的流体分离开以控制要引入干燥单元的流体的量的阻尼单元；和通过其排出在干燥单元中使用的流体和从阻尼单元分离出来的流体的排出单元。通过控制要引入干燥单元中的流体的量，可以防止电极板过度干燥。
用于防止过度干燥引起二次电池极板缺陷柔性空气供应阻尼系统

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202110767438.2在审
发明人：崔峻荣;李钟斗 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-07-07 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该基板处理装置包括：工艺腔室，在工艺腔室的内部提供处理空间，在处理空间中处理基板；将流体供应到工艺腔室中的流体供应单元；以及包括排放管线的排放单元，工艺腔室中的流体通过排放管线被排放。流体供应单元包括：供应罐，流体被储存在该供应罐中；连接供应罐和工艺腔室的供应管线；在供应管线的第一点处从供应管线分支的分支管线；以及控制流体供应单元的控制器，并且控制器控制流体供应单元，使得在流体被供应到工艺腔室中之前不久，流体通过分支管线从所述供应管线被排出。
处理装置方法

[发明专利]一种基板处理装置及基板处理方法-CN201310215172.6有效
发明人：金基峰;金鹏;宋吉勋;权五珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2013-05-31 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种利用超临界流体的基板处理装置。所述基板处理装置包括壳体；支撑构件，所述支撑构件设置在所述壳体内以支撑基板；超临界流体供应单元，所述超临界流体供应单元中存储有超临界流体；供应管，所述供应管用于将所述超临界流体供应单元连接到所述壳体；由所述供应管分支出来的排气管，以排放所述供应管中残留的超临界流体；用于调节从所述超临界流体供应单元供应到所述壳体内的超临界流体流量的供应阀设置在所述供应管中；用于打开或关闭所述排气管的开关阀设置在所述排气管中。
一种处理装置方法

[发明专利]温度控制装置、方法及半导体工艺设备-CN202311035663.2在审
发明人：乐中天;范光华;朱万玉;郭恒;闪陆通 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2023-08-16 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种温度控制装置、方法及半导体工艺设备，该装置中，第一供应单元用于提供第一温度的流体；第二供应单元用于提供第二温度的流体；液泵与流体通道的输出端连接；流体控制单元用于将第一供应单元提供的流体，和/或第二供应单元提供的流体，和/或液泵输出的流体，输送至流体通道，并实时检测流体控制单元向流体通道的输入端输出流体的第一温度值，且根据第一温度值和预设的目标温度值，实时调节第一供应单元和/或第二供应单元和/或液泵输送至流体通道的流量比例，以使第一温度值等于目标温度值。
温度控制装置方法半导体工艺设备

[实用新型]燃烧器-CN202022956199.9有效
发明人： T·埃克曼;H·格里彭贝里;L·朗马克;J·洛丁;A·P·理查森 -专利权人：林德有限责任公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： F23D14/22 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于流体燃烧的燃烧器(100)，包括内部流体供应单元(110)和外部流体供应单元(120)，其中，内部流体供应单元(110)包括第一内部流体喷射元件(111)、特别是第一管道，以及包围第一内部流体喷射元件(111)的至少轴向部分的第二内部流体喷射元件(112)、特别是第二管道，并且其中，外部流体供应单元(120)包括至少一个外部流体喷射元件(121)、特别是至少一个管道，其中，至少一个外部流体喷射元件(121)被布置成距内部流体供应单元(110)、特别是距内部流体供应单元(110)的中心、特别是距第一内部流体喷射元件(111)的中心具有特定的径向距离。
燃烧

[发明专利]充电单元温度调节系统、充电箱、换电站及储能站-CN201911370637.9在审
发明人：张建平;陆文成 -专利权人：奥动新能源汽车科技有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B60L53/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种充电单元温度调节系统、充电箱、换电站及储能站。该充电单元温度调节系统用于对充电单元的温度进行调节，所述充电单元用于对电动汽车的快换电池包进行充电，充电单元温度调节系统包括：流体循环单元，所述流体循环单元与所述充电单元相对应设置，用于吸收所述充电单元产生的热量；流体供应单元，所述流体供应单元用于为所述流体循环单元提供流体；以及流体冷却单元，所述流体冷却单元连接于所述流体循环单元和所述流体供应单元之间，用于冷却流经所述流体冷却单元的流体。利用流体供应单元提供的流体在流体循环单元中循环流动，吸收充电单元的热量，使充电单元的温度处于在适宜范围内，维持最佳状态对电池包进行充电。
充电单元温度调节系统电站储能站

[实用新型]充电单元温度调节系统、充电箱、换电站及储能站-CN202023232249.5有效
发明人：张建平;陆文成 -专利权人：奥动新能源汽车科技有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： B60L53/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种充电单元温度调节系统、充电箱、换电站及储能站。该充电单元温度调节系统用于对充电单元的温度进行调节，所述充电单元用于对电动汽车的快换电池包进行充电，充电单元温度调节系统包括：流体循环单元，所述流体循环单元与所述充电单元相对应设置，用于吸收所述充电单元产生的热量；流体供应单元，所述流体供应单元用于为所述流体循环单元提供流体；以及流体冷却单元，所述流体冷却单元连接于所述流体循环单元和所述流体供应单元之间，用于冷却流经所述流体冷却单元的流体。利用流体供应单元提供的流体在流体循环单元中循环流动，吸收充电单元的热量，使充电单元的温度处于在适宜范围内，维持最佳状态对电池包进行充电。
充电单元温度调节系统电站储能站

[发明专利]用于处理基板的装置和方法-CN202111026037.8在审
发明人：尹堵铉;崔龙贤;林义相;崔峻荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2021-09-02 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，包括主体，其具有内部空间，在所述内部空间中通过处于超临界状态的干燥流体来干燥基板；流体供应单元，其将干燥流体供应到内部空间中；流体排放单元，其从内部空间释放干燥流体；和控制器。控制器控制流体供应单元和流体排放单元以执行：升压步骤：将内部空间中的压力升高至设定压力，和流动步骤：通过在流体供应单元将干燥流体供应到内部空间中的同时由流体排放单元从内部空间释放干燥流体，从而在内部空间中产生干燥气体的流动
用于处理装置方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202211074647.X在审
发明人：林义相 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：基板处理装置包括：腔体，提供用于将基板用超临界状态的处理流体处理的处理空间；基板支承单元，在所述处理空间中支承所述基板；流体供应单元，包括将所述处理流体供应到所述处理空间的流体供应线；以及供应线加热单元，加热所述流体供应线。
处理装置以及方法

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